GWJの歴史History
GWJは、たゆみない技術革新によって、成長を続けてきました。
挑戦の歴史と、はじまりから受け継がれるもの、これから創る未来を紹介します。
はじまり
GWJの技術の歴史は、戦時中に東芝で、レーダー用検波器用のシリコン結晶精製に手探りで取り組んだことからはじまります。1960年代には、シリコントランジスタ(*1)の製造のため、いち早くシリコン単結晶育成に成功し、日本の半導体の基礎を作りました。1977年、これらの技術と、研究・開発機能を含め、シリコンウェーハ事業は東芝から東芝セラミックスへ移管され、現在の小国結晶センターで、シリコンウェーハの製造を開始しました。
- (*1)トランジスタ
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- 電気の流れをコントロールする素子
発展
省エネ・省電力に貢献する半導体デバイス用のシリコンウェーハを製造するため、1982年、徳山にエピタキシャルウェーハ生産工場、1985年、関川に拡散ウェーハ生産工場、様々な用途に対応するシリコンウェーハを製造するため、1991年、新潟に主力工場を設立し、生産拡大を進めました。時代の進展とともに、半導体デバイスの用途も増加します。お客様である半導体デバイスメーカーは多種多様な製品を開発するため、お客様毎にカスタマイズ出来るシリコンウェーハが必要となりました。これを解決したのが、「結晶技術」と「熱処理技術」を融合したGWJの『固有技術』です。
変革
更なる飛躍をするには、新しい環境が必要でした。そのために私たちが選択したのは、自立とグローバル化。2007年、東芝セラミックスは、東芝グループから独立し、コバレントマテリアルとなり、2013年、Sino-American Silicon Products Inc.グループの一員となり、社名をグローバルウェーハズ・ジャパンと変え、技術と生産の中枢を担うこととなりました。海外の文化と融合し、世界中に仲間を増やすことで、柔軟かつダイナミックにスピードを持って、シリコンウェーハ事業のグローバル展開が実現できるようになりました。
未来を、ここから
時代や環境が変わっても、創業時から変わらないのは、チャレンジ精神。シリコンウェーハには、創業時からの情熱を受け継ぐ人たちが、たゆみない技術革新の中で創りだした、高い技術と熱い想いが詰まっています。それらを受け継ぎ、進化させながら、今の情報化社会に必要不可欠なシリコンウェーハを創り出している私たちだからこそ、描ける未来があります。経営環境の変化にたくましく対応しながら、私たちは「未来を、ここから」、そして「これからも」創り続けます。
